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• 正性光刻胶：揭秘其在半导体制造中的关键作用
  正性光刻胶，作为半导体制造中的关键材料，其作用在于将光刻机投射的图像转移到硅片上。与负性光刻胶相比，正性光刻胶在曝光后，未曝光的部分会保持原状，而曝光的部分则会溶解或发生化学变化，从而形成所需的图案。
  2026-06-28